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真空技術(shù)的應用，使大量高科技產(chǎn)品走入人們的日常生活。事實(shí)上，在研發(fā)和工業(yè)領(lǐng)域的大量應用都需要極低的絕對壓力，即高真空環(huán)境。得名于渦輪機系列產(chǎn)品，渦輪分子泵代表著(zhù)全球領(lǐng)先的技術(shù)標準。轉速高達 90,000 rpm 的高速轉子能產(chǎn)生應用所需的壓力條件，從而產(chǎn)生在高真空和超高真空范圍內的高達 10-11 mbar 的真空度。
普發(fā)真空擁有抽速介于10到2,700 升/秒的完整渦輪分子泵產(chǎn)品系列。產(chǎn)品具有很高的性?xún)r(jià)比和靈活的安裝方式。經(jīng)過(guò)實(shí)踐驗證的軸承系統提供了更優(yōu)化的可靠性。通常有兩種類(lèi)型的軸承可供選擇——一種是由前級真空端的陶瓷球軸承與高真空端的永磁徑向軸承組合而成的復合軸承系統，另一種是完全主動(dòng)式的磁懸浮軸承系統，其轉子懸浮空中，無(wú)任何接觸或磨損。得益于精密的轉子設計，使產(chǎn)品具有更出色的抽速，更好的前級泵兼容性和更大的氣流量，對于小分子氣體具有更高的壓縮比。
現代渦輪分子泵能獲得超過(guò) 400 米/每秒的圓周速度。這將轉化為相應的高轉子動(dòng)能，當轉子和定子相觸，動(dòng)能將在瞬間傳輸到外殼和泵的底座上。因此，泵外殼的穩定性具有至關(guān)重要的作用，需經(jīng)過(guò)理論和實(shí)際的雙重檢驗。普發(fā)真空的渦輪分子泵已通過(guò)UL 61010和/或Semi S2認證。除機械安全性能外，該認證同時(shí)也包括了防火和轉速過(guò)高的雙重保護，這向認證是由普發(fā)真空與TüV Rheinland共同開(kāi)創(chuàng )的。
真空對于整個(gè)生產(chǎn)流程成功與否往往起著(zhù)決定性作用。一旦出現缺陷批次或者生產(chǎn)失敗，根據用途不同，造成的損失高達數百萬(wàn)歐元。因此，所有安裝部件具有較高可靠性變得越來(lái)越重要。如今，渦輪泵的工作時(shí)間常高達十萬(wàn)小時(shí)以上。在這段時(shí)間內，應盡可能減少由于維護或服務(wù)作業(yè)而造成的計劃內中斷。該泵具有可以在現場(chǎng)更換軸承或機油的特點(diǎn)。結合該特點(diǎn)，使其具有極高的可用性。渦輪內置有集成驅動(dòng)電子設備，從而顯著(zhù)降低了電纜支出。較先進(jìn)的驅動(dòng)技術(shù)將能耗降至較低，控制方案也多種多樣。符合防護等級 IP 54 的結構使該泵特別適合于工業(yè)用途。結構形式緊湊，即使在狹窄空間，依然可以安裝使用。為了保持低成本，可以為同一尺寸的泵選擇不同的驅動(dòng)電子設備 可以為同一尺寸的泵選擇不同的驅動(dòng)電子設備。重量方面也在持續改進(jìn)：一臺抽速達 250 l/s 的渦輪泵，其重量?jì)H為 6 kg。普發(fā)真空渦輪泵廣泛的應用領(lǐng)域不僅涵蓋分析儀器、真空處理和半導體技術(shù)，還包括涂層、科研和工業(yè)用途。
在很多產(chǎn)品制造和工藝研究領(lǐng)域中，真空技術(shù)發(fā)揮著(zhù)決定性的作用。渦輪分子泵對于制造極純工藝條件具有至關(guān)重要的作用。
應用范圍覆蓋多個(gè)領(lǐng)域：
分析儀器（質(zhì)譜分析法、顯微鏡等）
半導體行業(yè)（電子組件、集成電路、太陽(yáng)能電池等）
光學(xué)/玻璃行業(yè)（隔熱保護、防反射、反射、濾光鏡鍍膜等）
真空鍍膜技術(shù)*（表面保護、裝飾土層、顯示技術(shù)、屏幕等）
真空冶金（真空焊接、真空燒結、真空合金、真空爐等）
泄漏檢測（真空系統、機車(chē)燃料箱、安全氣囊、真空包裝行業(yè)）
科研設施（核粒子物理學(xué)、核聚變研究、激光應用等）
燈具行業(yè)（燈具生產(chǎn)等）
電磁軸承也被稱(chēng)作“主動(dòng)式磁懸浮軸承”，其轉子位置會(huì )被不間斷的監測和自動(dòng)調整，并依靠自動(dòng)平衡補償來(lái)實(shí)現無(wú)磨損、低震動(dòng)的運行。保證轉子能持續穩定的工作。同時(shí)，這樣的軸承設計也實(shí)現了零維護和無(wú)潤滑油。
HiPace M和ATH 500 M擁有5軸磁軸承。利用這種軸承技術(shù)，轉子 的位置能被實(shí)時(shí)控制。在工作中，動(dòng)平衡裝置會(huì )進(jìn)行自動(dòng)校準，可 以較小程度上減輕震動(dòng)和工藝過(guò)程中產(chǎn)生的軸承位移。低能耗和極 低的維護成本確保了其極高的性?xún)r(jià)比。
是否覺(jué)得不同的界面接口標準讓您頭疼不已？我們的磁懸浮渦輪分 子泵能提供集成化的電子驅動(dòng)裝置供您選擇，從而滿(mǎn)足各種不同界 面接口的連接需要。
我們ATH M和ATP M系列的磁懸浮渦輪分子泵擁有5軸磁軸轉子 監測系統和實(shí)時(shí)的轉子位移自動(dòng)修正功能。通過(guò)采用這種高性能的 軸承技術(shù)，我們的泵不僅能確保長(cháng)時(shí)間的穩定性和可靠性，同時(shí)運 行時(shí)也非常安靜。此系列軸承技術(shù)的泵在半導體、鍍膜和干蝕刻等 離子體過(guò)程行業(yè)的高真空工藝中具有成員地位，此外也廣泛應用于 許多其他工業(yè)行業(yè)和研發(fā)領(lǐng)域。
ATH 2300 M
Holweck 級 5 軸磁懸浮渦輪泵適合用于 N2的直至 2150 l/s 的吸氣能力
水冷
帶有CE標志且符合 RoHS 標準
加熱版本（MT）可用于腐蝕性應用
使用集成驅動(dòng)電子設備 OBC 或外部 Magpower 驅動(dòng)電子設備運行
用于在所有情況下的安裝
ATH 2300 MT，DN 250 CF-F，外部驅動(dòng)電子設備，水冷，加熱 (Q6622100)
ATH 2300 MT，DN 250 ISO-F，外部驅動(dòng)電子設備，水冷，加熱 (Q6662100)
ATH 2303 M，DN 250 CF-F，外部驅動(dòng)電子設備，水冷，非加熱 (TMB206220000)
ATH 2303 M，DN 250 ISO-F，外部驅動(dòng)電子設備，水冷，非加熱 (TMB206620000)
ATH 2303 M，DN 250 CF-F，OBC V4 集成驅動(dòng)電子設備，遙控，水冷，非加熱 (TMBBA622005A)
ATH 2303 M，DN 250 ISO-F，OBC V4 集成驅動(dòng)電子設備，遙控，水冷，非加熱 (TMBBA662005A)
ATH 2303 M，DN 250 CF-F，OBC V4 集成驅動(dòng)電子設備，Profibus，水冷，非加熱 (TMBBB622005A)
ATH 2303 M，DN 250 ISO-F，OBC V4 集成驅動(dòng)電子設備，Profibus，水冷，非加熱 (TMBBB662005A)
ATH 2303 M，DN 250 CF-F，OBC V4 集成驅動(dòng)電子設備，DeviceNet，水冷，非加熱 (TMBBC622005A)
ATH 2303 M，DN 250 ISO-F，OBC V4 集成驅動(dòng)電子設備，DeviceNet，水冷，非加熱 (TMBBC662005A)
ATH 2300 MT，DN 250 CF-F，外部驅動(dòng)電子設備，水冷，加熱
使用外部驅動(dòng)電子設備 Magpower 運行
用于在所有情況下的安裝
水冷，加熱
帶有CE標志且符合 RoHS 標準
Holweck 級 5 軸磁懸浮渦輪泵適合用于 N2的直至 2150 l/s 的吸氣能力
連接法蘭 DN 250 CF-F
技術(shù)參數| Ar 的壓縮比 | > 1 · 108 |
| Ar 的抽速 | 2000 l/s |
| Ar 的較大轉速時(shí)的氣體流量，75 °C 的被加熱的泵 | 8.5 hPa l/s | 6.38 Torr l/s | 8.5 mbar l/s |
| Ar 的氣體流量 | 25.4 hPa l/s | 19.05 Torr l/s | 25.4 mbar l/s |
| H2 的壓縮比 | > 2 · 103 |
| H2 的抽速 | 1100 l/s |
| H2 的較大轉速時(shí)的氣體流量，75 °C 的被加熱的泵 | > 16.9 hPa l/s | > 12.68 Torr l/s | > 16.9 mbar l/s |
| H2 的氣體流量 | > 67.6 hPa l/s | > 50.7 Torr l/s | > 67.6 mbar l/s |
| He 的壓縮比 | > 3 · 104 |
| He 的抽速 | 1800 l/s |
| He 的氣體流量 | > 67.6 hPa l/s | > 50.7 Torr l/s | > 67.6 mbar l/s |
| I/O 接口 | 通過(guò)外部驅動(dòng)電子設備 |
| N2 的壓縮比 | > 1 · 108 |
| N2 的抽速 | 2150 l/s |
| N2 的較大轉速時(shí)的氣體流量，75 °C 的被加熱的泵 | 16.9 hPa l/s | 12.68 Torr l/s | 16.9 mbar l/s |
| N2 的較大預真空 | 2.8 百帕 |
| N2 的氣體流量 | 67.6 hPa l/s | 50.7 Torr l/s | 67.6 mbar l/s |
| 不帶氣鎮的較終壓力 | < 6 · 10-9 百帕 |
| 允許冷卻水的溫度 | 15 – 25 °C 攝氏度 |
| 冷卻水消耗較小值 | 60 l/h |
| 冷卻水耗量 | 60 l/h |
| 冷卻類(lèi)型 | 水 |
| 冷卻類(lèi)型，標準 | 水 |
| 分離的驅動(dòng)電氣設備 | 是 |
| 聲壓水平 | ≤47 dB(A) 分貝 (A) |
| 安裝方向 | 任何 |
| 工作電壓 | 100 – 120 / 200 – 240, 50/60 Hz V AC |
| 方位 | 配有磁軸承 |
| 較終壓力 | < 6 · 10-9 百帕 |
| 較終壓力時(shí)的功率消耗 | 350 瓦 |
| 電子驅動(dòng)單元 | 外部驅動(dòng)電子設備 |
| 耗電量 max. | 1000 瓦 |
| 腐蝕性氣體的版本 | 是 |
| 轉速 ?± 2 % | 31,000 rpm | 31,000 min-1 |
| 運行時(shí)間 | < 8 分 |
| 連接法蘭（入口） | DN 250 CF-F |
| 連接法蘭（出口） | DN 40 ISO-KF |
| 重量 | 60 千克 |
| 顆粒計數 | 是 |
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